1、人類過多地使用氯氟烴類化學(xué)物質(zhì)（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因 。氯氟烴是一種人造化學(xué)物質(zhì) 。在第二次世界大戰(zhàn)后，尤其是進(jìn)入20世紀(jì)60年代以后 ， 氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發(fā)泡劑、化工溶劑等 。
2、另外 ， 哈龍類物質(zhì)（用于滅火器）、氮氧化物也會(huì)造成臭氧層的損耗 。
【臭氧層破壞的原因】3、發(fā)展中國家必須于2005年之前將氟氯烴的排放量凍結(jié)在1995－1997年的平均數(shù)量上，而發(fā)達(dá)國家已于1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質(zhì) 。
4、因此，必須積極尋找新的制冷工質(zhì)來代替氯氟烴類物質(zhì)，世界各國已經(jīng)進(jìn)行了許多新的嘗試，主要是應(yīng)用兩類制冷劑和確定三個(gè)發(fā)展方向 。
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